8 (812) 320-06-69

Каталог

Категории
Высшее образование (16+) (45099)
Высшее образование
Естественные науки (2781)
Естественные науки
Общественные науки (3966)
Общественные науки
Информатика и компьютерные технологии (4986)
Информатика и компьютерные технологии
Инженерное дело (1487)
Инженерное дело
Телекоммуникации, электроника, электротехника и радиотехника (1412)
Телекоммуникации, электроника, электротехника и радиотехника
Строительство. Архитектура (819)
Строительство. Архитектура
Строительство. Архитектура. Журналы (17)
Строительство. Архитектура. Журналы
Бетон и железобетон (3)
Бетон и железобетон
Жилищное строительство (7)
Жилищное строительство
Строительные материалы (7)
Строительные материалы
Юридические науки.Право (4595)
Юридические науки.Право
Отрасли права (2892)
Отрасли права
Гуманитарные науки (6467)
Гуманитарные науки
Иностранные языки (2430)
Иностранные языки
Экономика. Экономические науки (7959)
Экономика. Экономические науки
Образование. Педагогические науки (4139)
Образование. Педагогические науки
Медицина и здравоохранение (994)
Медицина и здравоохранение
Физическая культура и спорт (518)
Физическая культура и спорт
Среднее профессиональное образование (14+) (3380)
Среднее профессиональное образование
Коллекции (49348)
Коллекции
Издательские коллекции (48929)
Издательские коллекции
Проспект (3133)
Проспект
Журналы (1146)
Журналы
Остаться в выбранном разделе
Назад к каталогу

Получение тонких пленок реактивным магнетронным распылением

Получение тонких пленок реактивным магнетронным распылением ISBN 978-5-94836-369-1
ISBN 978-5-94836-369-1
Авторы: 
Берлин Е.В., Сейдман Л.A.
Тип издания: 
Справочное пособие
Издательство: 
Москва: Техносфера
Год: 
2014
Количество страниц: 
256
Аннотация

Книга представляет собой подробное справочное руководство по физическим основам, технологическим особенностям и практическому применению процесса реактивного магнетронного нанесения тонких пленок сложного состава, представляющих собой химические соединения металлов или полупроводников с азотом, кислородом или углеродом. Этот процесс уже широко распространен в электронной промышленности и в других отраслях, где используется нанесение покрытий. В книге обобщено современное состояние этого процесса, приведена обширная библиография. Представлено подробное описание физических процессов, протекающих во время реактивного магнетронного нанесения, и следующих из них технологических особенностей магнетронного нанесения. Особое внимание уделено способам управления процессами реактивного магнетронного нанесения тонких плёнок, обеспечивающих стабильность и воспроизводимость как самого процесса нанесения, так и свойств получаемых пленок. Описаны изменения состава и структуры получаемых пленок и их зависимость от параметров процесса нанесения. Приведена широкая номенклатура получаемых этим способом пленок сложного состава. Рассмотрены модификации этого процесса, различающиеся используемыми источниками питания: постоянного тока, среднечастотных импульсов, импульсов большой мощности и ВЧ. Даны практические рекомендации по освоению известных и разработке новых процессов получения пленок сложного состава методом реактивного магнетронного распыления.
Книга рассчитана на специалистов, занимающихся исследованием, разработкой и изготовлением различных изделий электронной техники и нанотехнологии, совершенствованием технологии их производства и изготовлением специализированного оборудования. Она также будет полезна в качестве учебного пособия для студентов старших курсов и аспирантов соответствующих специализаций.

Библиографическое описание Скопировать библиографическое описание

Берлин Е.В. Получение тонких пленок реактивным магнетронным распылением / Е.В. Берлин, Л. Сейдман. - Москва : Техносфера, 2014. - 256 с. - ISBN 978-5-94836-369-1. - URL: http://m.ibooks.ru/bookshelf/342820/reading (дата обращения: 26.07.2025). - Текст: электронный.